基板保持方法及び基板保持装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-230187
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086382
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】裏面異物を低減し、ウェハに対する載置台からの異物転写の少ない、プラズマ処理方法及び装置を提供する。【構成】試料台2の基板1外周部に対応する位置に表面が滑らかな環状の漏洩防止面3を設け、さらに前記基板外周部に対応する位置と該基板の中心に対応する位置の間に、該基板との接触保持部20を複数個設け、前記環状の漏洩防止面及び接触保持部と基板裏面とを接触させて係止する静電吸着手段を設けた。基板1は環状の漏洩防止面3及びその内側に位置する接触保持部20により冷却面と接する。しかし、残りの大部分の領域において、基板裏面と冷却面が接触していない。【効果】基板裏面に付着する異物の量を低減することができる。

請求項（抜粋）：

試料台に被処理基板を保持するとともに、処理時に試料台と被処理基板の間のガスを媒体として該基板を冷却する基板保持装置において、前記試料台の、基板外周部に対応する試料台に表面が滑らかな環状の漏洩防止面を設け、さらに前記基板外周部に対応する位置と該基板の中心に対応する位置の間に、該基板との接触保持部を複数個設け、前記環状の漏洩防止面及び接触保持部と基板裏面とを接触させて係止する静電吸着手段を設けたことを特徴とする基板保持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , H01L 21/203 , H01L 21/3065

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開昭62-193141
板状物保持手段およびそれを用いた装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-199617 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-003927

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審査官引用 (3件)

特開昭62-193141
板状物保持手段およびそれを用いた装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-199617 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-003927

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