下記繰り返し単位(1m)、(1n)、(1p)を含むことを特徴とする高分子化合物。【化1】(式中、R
1、R
2は同一又は異種の水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基である。R
3は同一又は異種のフッ素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化されたアルキル基であり、R
4は酸不安定基である。R
5a、R
5b、R
6a及びR
6bは水素原子、水酸基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基、(CH
2)
dCO
2R
7、又は(CH
2)
dC(R
8)
2(OR
7)である。R
7は酸不安定基、密着性基、水素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基である。また、R
5a、R
5b、R
6a及びR
6bはこれらの2つが結合して環を形成していてもよい。環を形成する場合、R
5a、R
5b、R
6a、R
6bは、酸素原子又はエステル基を含んでもよい炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。R
8は水素原子、フッ素原子、同一又は異種の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基であり、少なくとも1個以上のフッ素原子を含む。0≦m<1、0
IPC (6件):
C08F220/18
, C08F216/02
, C08F232/08
, C08F234/00
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (6件):
C08F220/18
, C08F216/02
, C08F232/08
, C08F234/00
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (82件):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB07
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4J100AD02P
, 4J100AD03P
, 4J100AD04P
, 4J100AD07P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL16Q
, 4J100AL21Q
, 4J100AL26Q
, 4J100AR09R
, 4J100AR11R
, 4J100AR31R
, 4J100AR32R
, 4J100BA02Q
, 4J100BA02R
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA04Q
, 4J100BA04R
, 4J100BA05Q
, 4J100BA05R
, 4J100BA06Q
, 4J100BA06R
, 4J100BA11R
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15R
, 4J100BA16R
, 4J100BA20Q
, 4J100BA20R
, 4J100BA29Q
, 4J100BA29R
, 4J100BA30Q
, 4J100BA30R
, 4J100BA31Q
, 4J100BA31R
, 4J100BA51Q
, 4J100BA51R
, 4J100BA55Q
, 4J100BA55R
, 4J100BB07P
, 4J100BB07R
, 4J100BB12R
, 4J100BB18R
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC03R
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC07Q
, 4J100BC07R
, 4J100BC08Q
, 4J100BC08R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC22Q
, 4J100BC22R
, 4J100BC23Q
, 4J100BC23R
, 4J100BC43Q
, 4J100BC43R
, 4J100BC45Q
, 4J100BC45R
, 4J100BC53Q
, 4J100BC83Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100JA38
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