特許
J-GLOBAL ID：200903001024110429
薄膜の形成方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
堀田 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194328
公開番号（公開出願番号）：特開平7-026379
出願日： 1993年07月09日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【目的】 被処理物に欠損のない均一な薄膜を形成して製品の歩留まりを向上させることができ、また大量生産が可能な薄膜の形成方法を提供する。【構成】 真空チャンバ4の内部10に受皿2を配設してこの受皿2に複数の被処理物3を載せ、真空チャンバ4の外部の振動源5により受皿2を振動させながら被処理物3に薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
容器の内部に受皿を配設してこの受皿に複数の被処理物を載せ、前記容器の外部の単数及び複数の振動源により前記受皿を振動させながら前記被処理物に薄膜を形成することを特徴とする薄膜の形成方法。
引用特許：
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