特許
J-GLOBAL ID：200903001037420192
レーザ露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-241320
公開番号（公開出願番号）：特開2006-053499
出願日： 2004年08月20日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】 廉価なレーザ露光装置によって、12800dpi以上の解像度を実現でき、グラビア製版、オフセット製版、フレキソ製版等における高解像度のレーザ製版を行い得るようにすること、更には、プリント基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の電子部品における回路パターンのレーザ露光や紙幣等における偽造防止用特殊印刷等にも用いることのできる高解像度のレーザ露光装置を提供する。【解決手段】 投影光学部の結像部に配列されるレーザスポットの夫々が矩形であるレーザ露光装置において、該レーザスポットの夫々を長手方向で少なくとも2以上の領域に等しく分割し、隣接するレーザスポット同士がその少なくとも1つの分割領域で互いに重なり合うようにオーバーラップ配列にすることにより、該レーザスポットの長手方向のサイズよりも4辺いずれもが小さい四角形のピクセルを露光するようにした。【選択図】 図2
請求項１：
レーザ光を発振するレーザ光源と、該レーザ光を複数の制御信号で空間的に配列分割して光変調する光変調部と、光変調部からの配列された出力光を縮小投影する投影光学部とを備え、投影光学部の結像部に配列されるレーザスポットの夫々が矩形であるレーザ露光装置において、該レーザスポットの夫々を長手方向で少なくとも2以上の領域に等しく分割し、隣接するレーザスポット同士がその少なくとも1つの分割領域で互いに重なり合うようにオーバーラップ配列にすることにより、該レーザスポットの長手方向のサイズよりも4辺いずれもが小さい四角形のピクセルを露光するようにしたことを特徴とするレーザ露光装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2H097AA07
, 2H097AB07
, 2H097BB01
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097GB01
, 2H097LA01
, 2H097LA04
, 2H097LA09
, 2H097LA12
出願人引用 (7件)
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グラビア製版工場
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-357865
出願人：株式会社シンク・ラボラトリー
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半導体レーザ露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-193212
出願人：株式会社シンク・ラボラトリー
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製版用露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-068573
出願人：株式会社シンク・ラボラトリー
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審査官引用 (6件)
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