特許

J-GLOBAL ID：200903001039423512

セメント原料乾燥方法及びその装置

発明者： 長谷川 潤 ,  野口 信久
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 坂本 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-075656
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261389
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】原料置き場に置かれた原料を乾燥させることができ、搬送装置に不具合を生じさせることを防ぐことのできるセメント原料乾燥方法及びその装置を提供する。【解決手段】セメント原料乾燥装置1は、支持板11の下側に加熱空間12が形成されて成るミックスベッド10の加熱空間12と、焼成装置20とが排気供給管路30によって接続され、焼成装置20からクリンカ冷却に供された後の排気が排気供給管路30を介してミックスベッド10の加熱空間12に供給され、支持板13を介してその上に堆積載置されたセメント原料2を加熱して乾燥させるように構成されている。

請求項（抜粋）：

原料置き場に置かれたセメント原料を、粉砕・調合工程及び焼成工程で加工してセメントクリンカを製造するセメント製造プラントにおいて、前記焼成工程の焼成装置からの排気を前記原料置き場に導き、前記排気の熱で前記原料置き場に置かれたセメント原料を加熱して乾燥することを特徴とするセメント原料乾燥方法。

IPC (3件)：

C04B 7/40 ,  F26B 3/20 ,  F26B 23/00

FI (3件)：

C04B 7/40 ,  F26B 3/20 ,  F26B 23/00 A

Fターム (15件)：

3L113AA01 ,  3L113AB05 ,  3L113AC01 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC51 ,  3L113AC69 ,  3L113AC76 ,  3L113AC83 ,  3L113AC90 ,  3L113BA01 ,  3L113DA06 ,  3L113DA07 ,  3L113DA18 ,  3L113DA26