回路デバイスや表示デバイスの製造方法、及び大型ディスプレー装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-339358
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154371
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】複数のマスクパターンをプレート基板上に継ぎ露光することによって大型の表示デバイスを製造する際、継ぎ露光に必要なマスクパターンの共通化を図ることで、マスク基板の不要な大型化を避けるとともに、露光装置の大型化を避けるようにする。【解決手段】マスク基板上の回路パターン領域の周辺領域のうち、継ぎ露光のためにマスク基板とプレート基板との相対位置関係を変化させる方向に対峙した一対の継ぎ領域の各々に形成されるパターン同志の形状または配置を、互いに相補的な入れ子関係にし、相対位置関係を変化させた露光によってマスク基板上の一対の継ぎ領域の両方または一方を、プレート基板上の既に転写されている回路パターン領域周辺の同様の継ぎ領域と入れ子状態で接合されるように転写する。

請求項（抜粋）：

【請求項 1】マスク基板上の回路パターン領域が回路デバイス形成用のプレート基板上で相互に継いで転写されるようにマスク基板とプレート基板との相対位置関係を変化させて露光する回路デバイスの製造方法において、前記マスク基板上の回路パターン領域の周辺領域のうち、前記相対位置関係が変化される方向に対峙した一対の継ぎ領域の各々に形成されるパターン同志の形状または配置を互いに相補的な入れ子関係にし、前記相対位置関係を変化させた露光によって前記マスク基板上の一対の継ぎ領域の両方または一方を、前記プレート基板上の既に転写されている回路パターン領域周辺の同様の継ぎ領域と入れ子状態で接合させて転写することを特徴とする回路デバイス製造方法。【請求項 2】前記一対の継ぎ領域内には、前記相対位置関係を変化させる方向に関して所定間隔で繰り返し形成された微細パターン構造を含むこと特徴とする請求項1に記載の方法。【請求項 3】前記一対の継ぎ領域の各々に形成されるパターン同志の形状或いは配置を、互いに相補的なランダムな入れ子関係にしたことを特徴とする請求項2に記載の方法。【請求項 4】前記互いに相補的なランダムな入れ子関係にする最小単位を、前記所定間隔で繰り返し形成される微細パターン構造にしたことを特徴とする請求項3に記載の方法。【請求項 5】前記回路デバイスは表示装置の表示画素部であり、前記互いに相補的なランダムな入れ子関係となる最小単位の微細パターン構造が、前記表示装置の画素を基準として設定されることを特徴とする請求項4に記載の方法。【請求項 6】前記表示画素部の各画素が、カラー表示用の赤緑青の3色に対応した3個の画素セルを含み、前記互いに相補的なランダムな入れ子関係となる最小単位の微細パターン構造を前記画素セル単位に設定したことを特徴とする請求項5に記載の方法。【請求項 7】前記表示画素部の各画素が、カラー表示用の赤緑青の3色に対応した3個の画素セルを含み、前記互いに相補的なランダムな入れ子関係となる最小単位の微細パターン構造を前記画素セル単位で分割した分割パターン要素とし、該分割パターン要素を前記相対位置関係の変化させる方向に関してランダムな飛び石状に配列しつつ、前記一対の継ぎ領域間で相補的な入れ子関係の配列にしたことを特徴とする請求項5に記載の方法。【請求項 8】前記一対の継ぎ領域の各々の前記相対位置関係を変化させる方向に関する幅を、前記プレート基板上に継ぎ露光で形成される隣り合った2つの表示領域間のコントラスト差に応じて設定したことを特徴とする請求項7に記載の方法。【請求項 9】マスク基板上に形成された回路パターンをプレート基板上に継ぎ露光することにより、プレート基板上に大きな2次元表示デバイスを形成する方法において、前記プレート基板上に形成される表示デバイス用の回路パターンが相互に位置合せされた複数の層の積層構造であり、第N層形成用のマスク基板上の回路パターンをプレート基板上に継ぎ露光する際に生じる継ぎ目の形状、或いは継ぎ領域内に露光されるマスク基板上の回路パターンの配列状態を、第(N-1)層または第(N+1)層形成用のマスク基板上の回路パターンをプレート基板上に継ぎ露光する際に生じる継ぎ目の形状、或いは継ぎ領域内に露光されるマスク基板上の回路パターンの配列状態と異ならせたことを特徴とする表示デバイス製造方法。【請求項10】前記継ぎ領域は、単一または複数のマスク基板上に形成された同じ回路パターン同志、或いは異なる回路パターン同志を前記プレート基板上に継ぎ露光する際、継ぐべき回路パターンの周辺領域同志を所定幅でオーバーラッブさせる領域であり、前記マスク基板上の前記継ぎ領域内に露光される回路パターンの外縁を結ぶ包絡線を、前記第N層形成用のマスク基板上では連続した周期的な波形とし、前記第(N-1)層または第(N+1)層形成用のマスク基板上ではランダムな折れ線とすることにより、継ぎ目の形状を層間で異ならせたことを特徴とする請求項9に記載の方法。【請求項11】前記周期的な波形、又はランダムな折れ線に形成される前記回路パターン外縁の包絡線の振幅を、前記継ぎ領域内でオーバーラップが行われる所定幅と等しくしたことを特徴とする請求項10に記載の方法。【請求項12】前記継ぎ領域は、単一または複数のマスク基板上に形成された同じ回路パターン同志、或いは異なる回路パターン同志を前記プレート基板上に継ぎ露光する際、継ぐべき回路パターンの周辺領域同志を所定幅でオーバーラッブさせる領域であり、前記継ぎ領域内に存在すべき回路パターンを2次元的に複数のパターン要素に分割し、該分割されたパターン要素を継ぎ露光すべきマスク基板上の回路パターンの各周辺領域にランダムに振り分けて形成しておくことにより、前記継ぎ領域内に露光されるマスク基板上の回路パターンの配列状態を層間で異ならせたことを特徴とする請求項9に記載の方法。【請求項13】マスク基板上の長方形のパターン領域をプレート基板上に相互に接合して順次投影露光することにより、プレート基板上に大きな2次元表示デバイスを形成する方法において、マスク基板上の長方形パターン領域の長手方向に関してマスク基板と前記プレート基板とを投影系に対して移動させることで前記長方形パターン領域の第1の像を前記プレート基板上に走査露光し、前記長方形パターン領域の短手方向に関してマスク基板と前記プレート基板との相対位置を変更させて、前記プレート基板上に新たに走査露光されるべき長方形パターン領域の第2の像が前記第1の像と継ぎ合わされるように位置付けることにより、前記プレート基板上に形成される表示領域が前記走査移動の方向と直交した方向を水平走査線とする長方形に形成されることを特徴とする表示デバイス製造方法。【請求項14】前記2次元表示デバイスは表示画素毎の個別の駆動信号を与えるマトリックス状の駆動信号線を有し、マスク基板上に形成される前記長方形パターン領域は、その長手方向の少なくとも一方の外周部に前記駆動信号線を所定本数毎にまとめるための端子領域の複数個を含み、該端子領域の少なくとも1つは、前記継ぎ合わせ露光によって投影される第1の像と第2の像に対応した各長方形パターン領域に分割して形成されることを特徴とする請求項13に記載の方法。【請求項15】前記長方形パターン領域の短手方向の寸法を前記端子領域の幅のほぼ整数倍としたことを特徴とする請求項14に記載の方法。【請求項16】前記投影系は、走査露光の方向と直交した非走査方向の全露光範囲が前記長方形パターン領域の短手方向の寸法を包含するように、複数の投影光学系を前記非走査方向に隣接配置して構成され、前記複数の投影光学系の各視野のうち、特定の視野を前記長方形パターン領域の短手方向の寸法に応じて制限して走査露光することを特徴とする請求項13に記載の方法。【請求項17】前記投影系は、走査露光の方向と直交した非走査方向の全露光範囲が前記長方形パターン領域の短手方向の寸法を包含するような円弧スリット状の視野を有し、該円弧スリット状の視野を前記長方形パターン領域の短手方向の寸法に応じて制限して走査露光することを特徴とする請求項13に記載の方法。【請求項18】マスク基板上に形成される表示デバイス用の回路パターンをプレート基板上に継ぎ露光して製造される大型のディスプレー装置において、表示画面のサイズは30インチ以上の横長の長方形であり、前記表示画面は、横方向に分割された複数の領域毎に走査露光装置によって前記回路パターンをプレート基板上に継ぎ露光することで形成され、前記分割された各領域の長手方向は前記表示画面の垂直走査線の方向であって、且つ前記走査露光装置による前記プレート基板の走査移動の方向に設定され、前記分割された各領域の短手方向は前記表示画面の水平走査線の方向であって、且つ前記走査露光装置の非走査方向に関する投影視野の最大範囲よりも小さく設定されていることを特徴とする大型ディスプレー装置。【請求項19】前記走査露光装置として、走査露光時にマスク基板を前記分割された各領域の長手方向の寸法以上の距離に渡って等速移動するとともに、その等速移動の方向と直交した非走査方向の微動とマスク基板の面と垂直な軸の回りの微小回転とが可能なマスクステージと、前記プレート基板を保持して前記表示画面の垂直走査線に対応した方向に等速移動可能であるとともに、前記表示画面の水平走査線に対応した方向にステップ移動可能なプレートステージとを備えた走査露光装置を用いて製造されることを特徴とする請求項18に記載の大型ディスプレー装置。

IPC (2件)：

G03F 7/22 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/22 Z , H01L 21/30 514 C

Fターム (15件)：

2H097BA01 , 2H097GB01 , 2H097KA12 , 2H097KA15 , 2H097KA20 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 5F046AA11 , 5F046BA05 , 5F046CB05 , 5F046CB17 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC16 , 5F046CC19

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