特許
J-GLOBAL ID：200903001063864252
積層薄膜コンデンサの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059861
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267091
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 積層薄膜コンデンサ素子部を形成する一連の工程の処理能力を向上させる。【構成】 板状固定マスク2により薄膜電極をパターン形成する工程と、板状固定マスク2により有機誘電体薄膜をパターン形成する工程と、マイクロ波プラズマを基板6全面へ照射する工程とからなり、これらの工程を同一真空槽1,2,3 内での連続的な処理を可能とするために同一圧力下でかつ同一真空槽内で行い、さらにこれらの工程をくり返す構成となっている。
請求項（抜粋）：
薄膜電極をパターン形成する工程と、有機誘電体薄膜をパターン形成する工程と、基板全面へプラズマを照射する工程とを同一圧力下でかつ同一真空槽内で行い、さらにこれらの工程をくり返して積層する積層薄膜コンデンサの製造方法。
IPC (2件)：
H01G 4/06 102
, H01G 4/30 311
