特許
J-GLOBAL ID:200903001078242711

真空装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-073868
公開番号(公開出願番号):特開平5-275512
出願日: 1992年03月30日
公開日(公表日): 1993年10月22日
要約:
【要約】【目的】 真空室1内の被処理材35a、35bに真空室1内の駆動機構7から生じた塵埃が付着することを防止すると共に、前記駆動機構7の発塵対策を緩和することを可能にする。【構成】 真空室1と、前記真空室1内に設置された筐体6と、前記筐体6内に配置された駆動機構7と、前記筐体6外の前記真空室1内に配置され、前記筐体6の開口部5を通して前記駆動機構7と連結された被駆動部材18と、前記真空室1の壁部に接続された第1真空排気系と、前記真空室1の壁部を貫通して前記筐体6に接続された第2真空排気系とを具備したことを特徴としている。
請求項(抜粋):
真空室と、前記真空室内に設置された筐体と、前記筐体内に配置された駆動機構と、前記筐体外の前記真空室内に配置され、前記筐体の開口部を通して前記駆動機構と連結された被駆動部材と、前記真空室の壁部に接続された第1真空排気系と、前記真空室の壁部を貫通して前記筐体に接続された第2真空排気系とを具備したことを特徴とする真空装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭62-100146

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