特許
J-GLOBAL ID：200903001083072506
強度可変均一平行磁場発生装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-248513
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196321
出願日： 1993年09月10日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 必要な空間に所定の強度の均一平行磁場を容易に発生させうる強度可変均一磁場発生装置を提供する。【構成】 コイルまたは永久磁石などの磁場発生源と、軸方向に平行にスリットの入った超電導体からなる円筒とを備え、磁場発生源の軸と超電導体からなる円筒の軸とが平行になるように組み合わせた強度可変均一平行磁場発生装置であって、超電導体が第2種超電導体であり、かつ該超電導体がその下部臨界磁場以上の磁場で0でない臨界電流密度を有することを特徴とする強度可変均一平行磁場発生装置。円筒は超電導体の板をスパイラルやスイスロール状に巻いたもの、板を複数枚貼り合わせて円筒にしたものでもよい。
請求項（抜粋）：
磁場を発生するコイルおよび/または永久磁石と、軸方向に平行にスリットの入った超電導体からなる円筒とを具備し、前記コイルおよび/または永久磁石の軸と前記超電導体からなる円筒の軸とが平行になるように組み合わせて、前記超電導体からなる円筒内部に円筒軸方向に強度可変の均一平行磁場を発生する強度可変均一平行磁場発生装置であって、前記超電導体が第2種超電導体であり、かつ該超電導体がその下部臨界磁場以上の磁場で0でない臨界電流密度を有することを特徴とする強度可変均一平行磁場発生装置。
IPC (3件)：
H01F 7/22 ZAA
, A61B 5/055
, H01L 39/00 ZAA
