特許
J-GLOBAL ID：200903001100003025
現像方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079577
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283332
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 寸法精度の高いレジストパターンを形成することのできる現像処理技術を提供する。【構成】 現像液供給ライン2と、希釈液供給ライン5と、現像液供給ライン2から供給された現像液および希釈液供給ライン5から供給された希釈液を所望の割合で混合する第一のノズル9と、第一のノズル9によって所望の濃度に設定された現像液を半導体ウエハ11の表面のフォトレジストに供給する第二のノズル10とを備え、フォトレジストを現像する現像液の濃度をシーケンス的に変化させるようにした現像装置である。
請求項（抜粋）：
被処理物上に塗布されたフォトレジストにマスクパターンの潜像を形成した後、前記フォトレジストを現像して前記被処理物上にレジストパターンを形成する現像方法であって、現像液の濃度を変化させながらフォトレジストを現像することを特徴とする現像方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
