特許
J-GLOBAL ID：200903001104255711
レジスト処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-189070
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142312
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 化学増幅型のレジスト材料を用いるにあたり、被処理体上のパターンについて高解像度を得ること。【構成】 塗布現像装置本体2の全体をカバ-体5で覆い、その空気取り入れ口51に、酸性ガスが供給される中和反応室6を設け、更にその下にパーティクル除去用のフィルタ部81及び吸引手段82を設け、外気が中和反応室6を通るときに、空気中のアンモニアやアミンなどのアルカリ成分と酸性ガスとの中和反応により、弱酸性にするように構成する。化学増幅型のレジスト膜は露光により酸が生成して変質するため、上記構成によれば変質が阻害されない。
請求項（抜粋）：
露光により酸が生成して露光部分が変質する化学増幅型のレジスト膜を用い、このレジスト膜が塗布された被処理体を露光した後現像を行うレジスト処理装置において、空気取り入れ口及び被処理体の搬入出口を備え、前記レジスト処理装置本体の全体を覆うカバー体と、前記空気取り入れ口に設けられ、酸性のガスが供給される中和反応室と、カバー体の外の空気を前記中和反応室を介してカバー体の中に吸引する吸引手段と、を有し、空気中に含まれるアルカリ成分を前記酸性のガスにより中和して、アルカリ成分と前記レジスト膜中の酸との中和反応を抑えることを特徴とするレジスト処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/02
, G03F 7/30 501
