特許

J-GLOBAL ID：200903001105431327

高い比表面積とコントロールされた低い構造性を有するシリカゲルおよびその製造方法

発明者： 赤崎 忠行 ,  中村 修
出願人/特許権者： 日本シリカ工業株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-316638
公開番号（公開出願番号）：特開平8-169710
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：

【要約】【目的】 高い比表面積とコントロールされた低い構造性を有するシリカゲル、特に、低分子有機化合物の吸着剤、クロマト用分離剤、塗料用艶消し剤、フィルムのアンチブロッキング剤として有用なシリカゲルを提供する。【構成】 BET比表面積600〜ll00m2 /g、窒素吸着による細孔容積が0.1〜0.3cc/g、細孔直径l〜30Åの細孔が細孔容積の90%以上を占める。

請求項（抜粋）：

BET比表面積600〜ll00m2 /g、窒素吸着による細孔容積が0.1〜0.3cc/g、細孔直径l〜30Åの細孔が細孔容積の90%以上を占めることを特徴とするシリカゲル。

IPC (3件)：

C01B 33/154 ,  B01J 20/10 ,  C01B 33/158