特許

J-GLOBAL ID：200903001108385571

ポジ型感光性組成物

発明者： 青合 利明 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-344112
公開番号（公開出願番号）：特開平5-158242
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【目的】 特に半導体デバイスの製造において、高感度で且つ高い解像力を有するフオトレジスト組成物を提供すること、詳しくはDeep-UV 領域での吸収が小さく、短波長光源に対応し得るポジ型フオトレジスト組成物を提供する。更に、露光後の処理工程条件による性能の変動が小さいポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型感光性組成物が、(a) 酸により分解し得る基を少なくとも1個有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(b) 活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c) 50°C以上で塩基を発生する化合物、を含有して成る。

請求項（抜粋）：

(a) 酸により分解し得る基を少なくとも1個有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(b) 活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c) 50°C以上で塩基を発生する化合物、を含有して成ることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027