特許
J-GLOBAL ID:200903001115201788

イオン注入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内原 晋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-257372
公開番号(公開出願番号):特開平5-101801
出願日: 1991年10月04日
公開日(公表日): 1993年04月23日
要約:
【要約】【目的】正確にイオン注入量を測定出来る。【構成】プラテン8aの外周囲にビーム1の通過する穴10aを開け、このプラテン8aの後段に穴10aを通過するビームを捕捉する多点ファラデーカップ9を配置し、ビーム1の走査折返し地点から離れたビーム走査速度の安定した位置でビーム電流を測定する。
請求項1:
水平方向にビームを走査しながら、垂直方向にウェーハをメカニカルスキャンして注入するイオン注入装置において、被注入物を搭載するとともにビームが通過する複数個の穴を外周部に設けたプラテンと、このプラテン後方部に配置されるビーム計測用ファラデーカップと、このファラデーカップと電気接続された電流計を備えることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2件):
H01J 37/317 ,  H01L 21/265
FI (2件):
H01L 21/265 D ,  H01L 21/265 T

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