特許

J-GLOBAL ID：200903001120659520

プラズマ処理装置用シャワープレートおよびその製造方法

発明者： 和田 正弘 ,  衣袋 久生 ,  越村 正己
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  江口 昭彦 ,  杉浦 秀幸 ,  村山 靖彦 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-016238
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228426
出願日： 2003年01月24日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】均一にプロセスガスを供給し、マイクロ波が減衰することを防止し、温度変化が発生せず、加工が容易なプラズマ処理装置用シャワープレートを提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置1に設けられたマイクロ波を放射するためのアンテナ6およびプロセスガスを供給するためのガス供給口7と、プラズマ処理される被処理体9との間に設けられ、被処理体9にプロセスガスを供給するプラズマ処理装置用シャワープレート20において、多孔質セラミックスで形成された板状本体を備えていることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置に設けられたマイクロ波を放射するためのアンテナおよびプロセスガスを供給するためのガス供給口と、プラズマ処理される被処理体との間に設けられ、被処理体にプロセスガスを供給するプラズマ処理装置用シャワープレートにおいて、 多孔質セラミックスで形成された通気性を有する板状本体を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置用シャワープレート。

IPC (2件)：

H01L21/3065 ,  H01L21/205

FI (2件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/205

Fターム (10件)：

5F004AA01 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EF05 ,  5F045EF11