特許
J-GLOBAL ID:200903001124152072
透明電極を有する透明装置の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三俣 弘文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-161874
公開番号(公開出願番号):特開2006-351531
出願日: 2006年06月12日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】 透明な電極を有する透明な装置を製造する方法を提供すること。【解決手段】 本発明の方法は、(A)透明な基板(1)の表面の少なくとも一部の上に、透明な導電性酸化物層(2)を堆積するステップと、(B)前記導電性酸化物層に、導電パス(6)により接触パッド(8)に接続する少なくとも1つの電極(4.6.8)を、前記少なくとも1つの電極の外径に沿って前記導電性酸化物層を除去することにより、形成するステップとを有し、これにより、前記導電性酸化物層の一部分(12)を、残りの部分(14)から切り離す第1トリミングライン(10)を形成し、前記一部分は、ある電位の電極を構成し、前記残余部分は、浮遊電位になり、(C)第2のトリミングライン(10’)を、前記第1トリミングラインの周囲に形成するステップをさらに有する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
透明な電極を有する透明な装置を製造する方法において、
(A) 透明な基板(1)の表面の少なくとも一部の上に、透明な導電性酸化物層(2)を堆積するステップと、
(B) 前記導電性酸化物層(2)内に、導電パス(6)により接触パッド(8)に接続する少なくとも1つの電極(4.6.8)を、前記少なくとも1つの電極(4、6、8)の外径に沿って前記導電性酸化物層(2)を除去することにより、形成するステップと
を有し、
これにより、前記導電性酸化物層(2)の一部分(12)を、前記導電性酸化物層(2)の残りの残余部分(14)から切り離す第1トリミングライン(10)を形成し、
前記一部分(12)は、前記電極(4、6、8)を構成し、ある電位を有するようになり、
前記残余部分(14)は、浮遊電位になり、
(C) 少なくとも第2のトリミングライン(10’)を、前記第1トリミングライン(10)の周囲に形成するステップ
をさらに有する
ことを特徴とする透明電極を有する透明装置の製造方法。
IPC (2件):
FI (3件):
H01H11/00 H
, H01H11/00 G
, H01H36/00 J
Fターム (18件):
5G023AA04
, 5G023AA11
, 5G023BA04
, 5G023CA27
, 5G023CA29
, 5G046AA11
, 5G046AB02
, 5G046AC24
, 5G046AD02
, 5G046AE02
, 5G046AE03
, 5G050AA19
, 5G050AA45
, 5G050BA10
, 5G050CA05
, 5G050EA05
, 5G050EA09
, 5G050FA01
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特開昭60-260392号
-
国際公開パンフレット第92/13328号
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