特許
J-GLOBAL ID：200903001124419273
磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスクの製造方法並びに磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-251905
公開番号（公開出願番号）：特開平5-089459
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、高密度記録が可能な程度に十分な平滑度を有し、かつ、記録エリアを周縁にまで拡大することを可能とする磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法並びに磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供することを目的とする。【構成】 本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法並びに磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、研磨加工工程におけるファイナル研磨たる第2研磨をガラス基板1に施す際の研磨加工圧力P(g/cm<SP>2 </SP>)と研磨加工時間t(min)との積Ptの値が、1000<Pt<15000の範囲になるようにこれら研磨加工圧力Pと研磨加工時間tとを選定したことを特徴とするもので、これにより、高密度記録が可能な程度に十分な平滑度を有し、かつ、記録エリアを周縁にまで拡大することを可能とする磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得ることを可能としたものである。
請求項（抜粋）：
円板状ガラス基板の主表面に、研削、硬質ポリシャを使用する第1研磨及び軟質ポリシャを使用する第2研磨を順次施して前記主表面を鏡面にする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記第2研磨を施す際の研磨加工圧力P(g/cm<SP>2 </SP>)と研磨加工時間t(min)との積Ptの値が、1000<Pt<15000の範囲になるようにこれら研磨加工圧力Pと研磨加工時間tとを選定したことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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