特許
J-GLOBAL ID：200903001125525824
磁気ディスクの製造方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩川 修治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-192629
公開番号（公開出願番号）：特開平9-027121
出願日： 1995年07月06日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】【目的】 磁気ディスク表面の異常突起を除去するとともに、磁気ディスク表面における異物の残存やスクラッチの発生を防止すること。【構成】 磁気ディスク1の製造方法において、カーボン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうもの。
請求項（抜粋）：
基板の上に磁性層を形成し、磁性層の上にカーボン保護層を形成することを含む磁気ディスクの製造方法において、前記カーボン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/84 A
, G11B 5/84 B
, C23C 14/34 P
