特許
J-GLOBAL ID：200903001138330801
ヒドロキシ安息香酸類の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
青山 葆
, 河宮 治
, 田中 光雄
, 松谷 道子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-288732
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123592
出願日： 2002年10月01日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】副生成物が少なく高純度のヒドロキシ安息香酸類を高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】フェノール類とアルカリ金属化合物とを脱水反応させて、フェノール類のアルカリ金属塩を得た後、二酸化炭素と反応させてヒドロキシ安息香酸類を製造する方法において、アルカリ金属化合物と、アルカリ金属化合物に対して過剰量のフェノール類とを160°C以上の温度下で脱水反応させることを特徴とする、ヒドロキシ安息香酸類の製造方法を提供する。本発明の方法によれば、非プロトン性極性有機溶剤を用いることなく簡易な工程で安価にヒドロキシ安息香酸類を製造することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
フェノール類とアルカリ金属化合物とを脱水反応させて、フェノール類のアルカリ金属塩を得た後、二酸化炭素と反応させてヒドロキシ安息香酸類を製造する方法において、アルカリ金属化合物と、アルカリ金属化合物に対して過剰量のフェノール類とを160°C以上の温度下で脱水反応させることを特徴とする、ヒドロキシ安息香酸類の製造方法。
IPC (3件)：
C07C51/15
, C07C65/03
, C07C65/05
C07C51/15
, C07C65/03 A
, C07C65/05
4H006AA02
, 4H006AC42
, 4H006AC46
, 4H006BC10
, 4H006BC31
, 4H006BD70
, 4H006BE10
, 4H006BE41
, 4H006BJ20
, 4H006BN30
