特許

J-GLOBAL ID：200903001143144161

ポジ型レジスト組成物

発明者： 河田 正司 ,  楠 哲了 ,  柏木 幹文 ,  藤井 利明
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165345
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333540
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れていると共に、特に、1μm以下の微細パターンを形成する微細加工において、露光量に対する寸法変化の小さい、いわゆる露光マージン(露光ラティチュード)に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 (a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル感光剤、及び(c)下記一般式〔I〕で示されるモノヒドロキシ化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。R1〜R5:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、及び炭素数2〜5のアルケニル基から選択される。R7及びR8:それぞれ独立に水素原子、及び炭素数1〜4のアルキル基から選択される。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル感光剤、及び(c)下記一般式〔I〕で示されるモノヒドロキシ化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R1〜R5:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、及び炭素数2〜5のアルケニル基から選択される。R7及びR8:それぞれ独立に水素原子、及び炭素数1〜4のアルキル基から選択される。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027