特許
J-GLOBAL ID：200903001147375117
X線転写用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 雅生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-086109
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259039
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、マスク基板に歪がなく、耐熱性、耐久性に優れたX線転写用マスクを提供する。【構成】 炭化硅素または窒化硅素薄膜から成るマスク基板と炭化硅素または窒化硅素質セラミックス製支持枠とが接合された構造のX線転写用マスクにおいて、マスク基板と支持枠の各々の接合面に銅を蒸着した後、荷重下で拡散接合することにより低温での接合が可能となり、マスク基板に歪を生ずることなく、耐熱性、耐久性に優れたX線転写用マスクが得られる。
請求項（抜粋）：
炭化硅素薄膜または窒化硅素薄膜を表面に蒸着したシリコン基板を炭化硅素製または窒化硅素質セラミックス製支持枠に接合した後、前記薄膜の一部および前記シリコン基板の一部を除去して作成した窓状の薄膜部分を有するシリコン基板をマスク基板とするX線転写用マスクにおいて、前記シリコン基板と前記支持枠とが、予め各接合面に形成された銅蒸着層を介して設定荷重下で拡散接合されてなることを特徴とするX線転写用マスク
IPC (2件)：
前のページに戻る
