特許
J-GLOBAL ID:200903001156537286

パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-232212
公開番号(公開出願番号):特開2004-071483
出願日: 2002年08月09日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】プラズマディスプレイパネル(PDP)の隔壁形成、電極形成等の製造のためのパターン形成において、ラインの高さが異なる凹凸模様を同一基板に形成させる。【解決手段】基板表面に感光性樹脂組成物層を設け、次いで硬化度の小さいレジストを与えるパターンマスクの露光部分に、350〜450nmの波長域での最小透過率が20%以下であるフイルムマスクを、該パターンマスクの上面又は下面に配置し、該パターンマスクを介して露光をして硬化度の異なるレジストを得、その後現像して未露光部分を除去し、基板表面をサンドブラストしてライン高さの異なるパターンを形成させる【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板表面に感光性樹脂組成物層を設け、次いで硬化度の小さいレジストを与えるパターンマスクの露光部分に、350〜450nmの波長域での最小透過率が20%以下であるフイルムマスクを、該パターンマスクの上面又は下面に配置し、該パターンマスクを介して露光をして硬化度の小さいレジストと硬化度の大きいレジストを得、その後現像して未露光部分を除去し、基板表面をサンドブラストしてライン高さの異なるパターンを形成させることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (6件):
H01J9/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01J11/02
FI (6件):
H01J9/02 F ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/40 521 ,  H01J11/02 B
Fターム (31件):
2H025AB11 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC45 ,  2H025BC66 ,  2H025BC85 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA42 ,  2H025FA48 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H097BB01 ,  2H097BB02 ,  2H097CA12 ,  2H097FA02 ,  2H097JA04 ,  2H097LA11 ,  5C027AA09 ,  5C040GF19 ,  5C040JA17
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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