光衝撃波による洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157666
公開番号（公開出願番号）：特開平8-019766
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】ドライ方式の洗浄装置であって、被洗浄物表面に付着した超微粒子を除去することが可能な、光衝撃波による洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 UV領域で短パルス発光するエキシマレーザ光2を被洗浄物6の表面に照射して、光の表面吸収によって生じる光衝撃波により被洗浄物6の表面に付着している微粒子を剥離して除去するとともに、エキシマレーザ光2の光エネルギーによって被洗浄物6の表面に付着している有機物を分解して除去するレーザ光照射手段1、3、4、5と、除去された微粒子及び有機物を吸引する吸引器8とを備えている。

請求項（抜粋）：

UV領域で短パルス発光するエキシマレーザ光を被洗浄物の表面に照射するレーザ光照射手段であって、光の表面吸収によって生じる光衝撃波により被洗浄物の表面に付着している微粒子を剥離して除去するとともに、前記エキシマレーザ光の光エネルギーによって被洗浄物の表面に付着している有機物を分解して除去するレーザ光照射手段と、除去された微粒子及び有機物を吸引する吸引手段と、を備えた光衝撃波による洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 7/00 , H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-257731
特開昭60-216558
特開平2-254721

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