特許
J-GLOBAL ID：200903001175689747

埋設型生物脱臭設備

発明者：
新原 政喜

新原 政喜 について

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高橋 和久

高橋 和久 について

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山田 美臣

山田 美臣 について


出願人/特許権者：
旭硝子エンジニアリング株式会社

旭硝子エンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-181366
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000424
出願日： 1998年06月15日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 季節による日照、風雨、降雪、外気温度等の変化が、設備内の微生物菌体に影響を及ぼすことが少なく菌体が常に適切な生存環境に維持された生物脱臭設備を提供する。【解決手段】 横置槽型の胴体部内に仕切壁を配設してガスの流れを交互に上昇流または下降流とするガス流通部を画定し、上昇流通部内に菌体充填層を設け、また、貯留水槽、循環ポンプ、散水ノズルをすべて胴体部内に収容し、さらに胴体部上部に循環ポンプ等の取り出し用開口部を形成したモジュールを、地下に埋設する。
請求項（抜粋）：
微生物菌体を着床させた担体を充填した菌体充填層を備え、これに悪臭ガスを通過接触せしめて脱臭を行う、筒状の胴体部とその両端部の蓋体とからなる横置槽型の生物脱臭設備であって、悪臭ガスを槽の一端から導入し他端から排出するものにおいて、(1)前記胴体部の長手方向に沿って、胴体部上方から垂下する仕切壁と胴体部下方から立ち上がる仕切壁B1 ,B2 ,・・・・,Bi を交互に配設して、導入された悪臭ガスの流れを交互に上昇流または下降流とする複数のガス流通部C1,C2 ,・・・・,Cj を順次画定し、ガスが上昇流である前記流通部の少なくとも一つに上記菌体充填層を形成し、上昇する悪臭ガスを通過接触せしめるとともに、(2)前記胴体部の底部の貯留水槽と、貯留水を循環させる循環ポンプ手段と、および前記充填層の上部から貯留水を散水する散水ノズル手段とからなる散水システムを前記胴体部内に設け、さらに、(3)少なくとも前記充填層および循環ポンプ手段の胴体部上方には、これらを槽外に取り出し可能にする開口部を形成して脱臭設備モジュールとし、当該モジュールの少なくとも一部を地下に埋設せしめた埋設型生物脱臭設備。
IPC (3件)：
B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2件)：
B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/34 ZAB
Fターム (19件)：
4D002AA01 ,  4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA17 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA41 ,  4D002DA59 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB09 ,  4D002GB12 ,  4D002HA03 ,  4D002HA10
引用特許：
審査官引用 (2件)

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