特許

J-GLOBAL ID：200903001184466068

気相成長装置

発明者： 市島 雅彦 ,  外谷 栄一 ,  大橋 忠 ,  島田 真幸 ,  三谷 慎一 ,  本多 恭章
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社 ,  東芝機械株式会社
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-156295
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063973
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】 加熱処理後にも、反射効率が従来ほど低下せず、しかも必要に応じてHNO3 -HF水溶液で洗浄して表面を元の平滑な状態に戻して反射効率を改善できる反射板を使用する気相成長装置を提供する。【解決手段】 反応室の内部でウエハをウエハ保持板で支持し、上記ウエハ保持板に支持されたウエハの下方にヒータを設け、ウエハの表面に気相成長させる気相成長装置において、上記ヒータの少くとも下向きの熱を反射する反射板を設け、上記ヒータの側方外周を囲むように保温筒を設け、上記反射板をガラス状カーボンで形成した気相成長装置。

請求項（抜粋）：

反応室の内部でウエハをウエハ保持体で支持し、上記ウエハ保持体に支持されたウエハの下方にヒータを設け、加熱状態でウエハの表面に気相成長させる気相成長装置において、上記ヒータの少くとも下向きの熱を反射する反射板を設け、上記反射板をガラス状カーボンで形成することを特徴とする気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/68 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-088517
  
• 特開昭61-088517
  
• 特開昭61-088517