特許
J-GLOBAL ID：200903001189666103
異方性薄膜の評価方法及び評価装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-214314
公開番号（公開出願番号）：特開2001-041850
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示素子に用いられる液晶配向膜等の異方性薄膜の分子配向評価法と評価装置を提供する。【解決手段】 異方性配向膜の分子配向状態を試料からの反射光の偏光状態を測定することにより評価する方法において、試料の測定面内回転移動機構の回転ステージ201と、試料の測定面内方向に互いに直交した方向に水平移動する機構の平行移動ステージ202・203、及び試料測定面傾斜の微調整機構の傾き角調整機構204、上下に移動して試料の測定面高さを調整できるZ軸ステージ205をもつ試料ステージを保持することにより、被測定試料表面内の高さに異なる部分を有する場合においても全画素の評価が可能となる。かつ、回転ステージの精度不足による位置ずれを平行移動ステージ202・203による微調整により補うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
薄膜試料の表面に一定の偏光状態の単色光を一定の角度から入射した際に発生する反射光の偏光状態の入射方位依存性を評価する方法であって、(1)試料が搭載された回転ステージを回転させて試料に対する光入射方位を所定の方位に設定する過程と、(2)回転ステージが回転したことに伴う試料表面の平面方向の位置ずれを補正する過程と、(3)前記単色光を入射して反射光の偏光状態を測定する過程と、を有することを特徴とする異方性薄膜の評価方法。
IPC (3件)：
G01M 11/00
, G01M 11/02
, G02F 1/1337
G01M 11/00 T
, G01M 11/02 B
, G02F 1/1337
2G086EE10
, 2H090HC18
, 2H090HC20
, 2H090LA06
, 2H090LA09
, 2H090LA16
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
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