特許

J-GLOBAL ID：200903001193741330

光学活性パントラクトンの製造方法

発明者： 佐用 昇 ,  張 小勇 ,  今井 隆 ,  三浦 孝志
出願人/特許権者： 高砂香料工業株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-277981
公開番号（公開出願番号）：特開平10-120670
出願日： 1996年10月21日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【解決手段】 2,2'- ビス(ジ-3,5- キシリルホスフィノ)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチル(1)の遷移金属錯体の存在下にケトパントラクトンを不斉水素化することを特徴とする光学活性パントラクトンの製造方法。【化1】【効果】 光学活性パントラクトンを高エナンチオ選択率及び高転化率で製造することができる。

請求項（抜粋）：

次式(1)【化1】で表される2,2'-ビス(ジ-3,5-キシリルホスフィノ)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチルの遷移金属錯体の存在下にケトパントラクトンを不斉水素化することを特徴とする光学活性パントラクトンの製造方法。

IPC (5件)：

C07D307/33 ,  B01J 31/22 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (4件)：

C07D307/32 Q ,  B01J 31/22 Z ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300