特許

J-GLOBAL ID：200903001206614546

イオン注入装置

発明者： 飯田 英敏
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-103757
公開番号（公開出願番号）：特開平10-302657
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ全面にわたり、イオンを均一に注入するようにしたイオン注入装置を提供する。【解決手段】 イオン注入装置36は、チャンバ40を有するイオンソース部36と、イオンビームを計測するモニタ39を備えている。チャンバ40には、一列に並べて設けられた3個のフィラメント42A〜Cと、フィラメント42A〜Cにそれぞれ対向して一列に並べて設けられたリフレクタ44A〜Cとが設けられている。フィラメント42A〜Cは、可変の電圧を印加するフィラメント電源48A〜Cにそれぞれ接続されており、リフレクタ44A〜Cも同様である。モニタ39は、イオンビーム内のビーム電流分布を計測するセンサ54を備え、フィラメント電源48A〜C及びリフレクタ電源50A〜Cの印加する電圧を調整し、イオンビームのビーム電流分布を均一にする。

請求項（抜粋）：

チャンバ内でイオンを発生させるイオンソース部と、イオンソース部からイオンをイオンビームとして導出する引き出し電極と、イオンビーム中のイオン種を選別する質量分析部とを備え、ウエハにイオン注入するようにしたイオン注入装置において、イオンソース部は、複数のゾーンに区画されたチャンバと、各ゾーンに設けられ、イオン種となるガスを導入するガス導入口と、各ゾーンに設けられ、熱電子を放出するフィラメントと、各ゾーンにフィラメントに対向して設けられたリフレクタと、各フィラメントに接続され、フィラメント毎にそれぞれ可変の電圧を印加し、フィラメントにフィラメント電流を流すフィラメント電源と、各リフレクタに接続され、リフレクタ毎に可変の電圧を印加し、対向するフィラメントとの間でアーク放電させるリフレクタ電源とを備え、更に、イオンビームのビーム電流分布を計測するセンサを引き出し電極と質量分析部との間に有するモニタを備え、モニタが、センサからのビーム電流分布に基づいて、各フィラメントのフィラメント電流及びリフレクタ電源の各リフレクタへの印加電圧の少なくとも一方を調節するようにしたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317

FI (3件)：

H01J 27/08 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z