特許

J-GLOBAL ID：200903001207973663

ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの蒸留精製方法

発明者： 稲田 修司 ,  佐藤 菊智
出願人/特許権者： 株式会社アイエス ,  財団法人クリーン・ジャパン・センター
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156975
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335539
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：

【要約】【課題】 ポリエチレンテレフタレートの製造に有用な高品質の精製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを効率よく製造すること。【解決手段】 ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを主たる溶質としそしてエチレングリコールを主たる溶媒とする溶液を脱イオン処理し、次いで、酸性リン化合物およびそのエステル誘導体よりなる群から選ばれる少なくとも1種のリン化合物を、該ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート当たり、リン原子として3ppm乃至300ppm添加しそして蒸留することによるビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの蒸留精製方法。

請求項（抜粋）：

ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを主たる溶質としそしてエチレングリコールを主たる溶媒とする溶液を脱イオン処理し、次いで、酸性リン化合物およびそのエステル誘導体よりなる群から選ばれる少なくとも1種のリン化合物を、該ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート当たり、リン原子として3ppm乃至300ppm添加しそして蒸留することを特徴とするビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの蒸留精製方法。

IPC (3件)：

C07C 67/54 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/82

FI (3件)：

C07C 67/54 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/82 B

Fターム (10件)：

4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AD10 ,  4H006AD40 ,  4H006BB14 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BE04 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN10