特許
J-GLOBAL ID：200903001209167010
縮小投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-176148
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343294
出願日： 1992年06月10日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 ウェハの周辺露光とプリアライメントの動作を同時に行い、処理能力の低下を防ぐ。【構成】 照射部6は光ファイバー10からの光12をウェハ1の周辺部に照射する。照射部6に対向した位置にCCDセンサ11を持ち、光の遮られる量に応じた出力が得られる。照射部6はリニアスケール9により位置の検出ができる。ウェハ1は真空チャック2により保持,回転される。真空チャック2と照射部6とを相対的に変位させるとともに、XYステージ4,5により真空チャック2を移動させることにより、プリアライメント動作と、周辺露光動作を同時に行い、処理能力の低下を防ぐ。
請求項（抜粋）：
ウェハ回転部と、2軸移動機構と、ウェハ回転位置検出機構と、照射部及び受光部と、一軸移動機構と、受光部検出機構と、演算ユニットとを有する縮小投影露光装置であって、ウェハ回転部は、半導体基板を吸着し回転させるものであり、2軸移動機構は、ウェハ回転部を、半導体基板と平行な平面内に直交する2軸方向に移動させるものであり、ウェハ回転位置検出機構は、ウェハ回転部の回転角度を検出するものであり、照射部及び受光部は、ウェハ回転部上の半導体基板より外側に設けられ、半導体基板の径方向に対して移動可能であり、照射部は、パターン転写用と別光源であり、半導体基板周辺部及び端面のフォトレジストに照射して露光するものであり、受光部は、照射部に対して半導体基板周辺部を挾んで対向して設けられ、照射部からの光が半導体基板で遮られた量に応じた光量を受光するものであり、一軸移動機構は、照射部及び受光部をウェハ回転部上の半導体基板に対し径方向に移動させるものであり、受光部検出機構は、受光部の位置データを検出するものであり、演算ユニットは、半導体基板の回転に伴ない受光部が受光した光量の増減に応じて該光量が規定値になる位置に照射部及び受光部を一軸移動機構により移動させて照射部による露光を実行させる機能と、受光部検出機構及びウェハ回転位置検出機構の位置データに基いて半導体基板のウェハ回転部上での偏心度合及び半導体基板のオリエンテーションフラットの回転位置を求め、ウェハ回転部を2軸移動機構により2軸方向に移動させて半導体基板の偏心度合を補正するとともに、ウェハ回転部により半導体基板を角回転させオリエンテーションフラットの位置を補正する基板のプリアライメントを実行する機能とを並行して行うものであることを特徴とする縮小投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 L
