特許

J-GLOBAL ID：200903001227794404

真空アーク蒸着装置

発明者： 三宅 浩二
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095815
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294433
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 磁気コイルが作る磁場中におけるプラズマのドリフトによって基体表面における膜厚分布の均一性が悪化することを抑制する。【解決手段】 この真空アーク蒸着装置は、真空アーク蒸発源12によって生成したプラズマ18を偏向磁場によって成膜室2内の基体6の近傍に導く複数の磁気コイル24を有している。そして、この各磁気コイル24に流すコイル電流IC を反転させることのできるコイル電源40と、このコイル電源40を制御してコイル電流IC の方向を反転させる制御器42とを設けた。

請求項１：

基体を収納して真空排気される成膜室と、真空アーク放電によって陰極を蒸発させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、この真空アーク蒸発源によって生成したプラズマを偏向または集束させる磁場を発生させて当該磁場によって前記プラズマを前記成膜室内の基体の近傍に導く磁気コイルと、この磁気コイルに前記磁場を発生させるコイル電流を流すコイル電源とを備える真空アーク蒸着装置において、前記コイル電源を、前記磁気コイルに流すコイル電流を反転させることのできるコイル電源とし、かつこのコイル電源を制御して前記磁気コイルに流すコイル電流の方向を反転させる制御器を設けたことを特徴とする真空アーク蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/40

FI (3件)：

C23C 14/24 F ,  B01J 19/08 H ,  H05H 1/40

Fターム (23件)：

4G075AA24 ,  4G075AA42 ,  4G075BA02 ,  4G075BC01 ,  4G075BD01 ,  4G075BD14 ,  4G075CA17 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC30 ,  4G075ED01 ,  4G075ED08 ,  4K029BD03 ,  4K029BD05 ,  4K029CA01 ,  4K029DA00 ,  4K029DB17 ,  4K029EA01 ,  4K029EA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 矩形真空アークプラズマ源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-527728   出願人：ベイパーテクノロジーズ,インコーポレイテッド

審査官引用 (1件)

• 矩形真空アークプラズマ源
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-527728   出願人：ベイパーテクノロジーズ,インコーポレイテッド