特許

J-GLOBAL ID：200903001234505833

フォトマスクブランク及びその製造方法並びにフォトマスク

発明者： 林 健太 ,  植山 公助
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 市之瀬 宮夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-269732
公開番号（公開出願番号）：特開平6-095363
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】 KrFエキシマレーザ等の短波長光を光源とするステッパーに使用可能なフォトマスクブランク及びその製造方法並びにフォトマスクを提供する。【構成】 本発明は、透明基板1上に、シリコンに対する酸素の含有比Si/Oが1/0〜1/1.5 である組成からなる遮光性薄膜2を設け、その上にシリコンの窒化物又は炭化物からなる反射防止膜3を設けてなるフォトマスクブランク、及び透明基板1上に遮光性薄膜2と反射防止膜3をスパッタリング法により形成するフォトマスクブランクの製造方法、並びに上記フォトマスクブランクをパターン化して形成されたフォトマスクである。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、シリコンに対する酸素の含有比(原子数比)Si/Oが1/0〜1/1.5 である組成からなる遮光性薄膜を設け、その上にシリコンの窒化物又は炭化物からなる反射防止膜を設けたことを特徴とするフォトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭49-053380
  
• 特開昭59-139033