特許

J-GLOBAL ID：200903001250374170

複合チタン酸化物膜の製造方法

発明者： 勝木 省三 ,  丸山 卓也
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-347949
公開番号（公開出願番号）：特開平10-182154
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】 基板上の所望の位置に複合チタン酸化物を形成することができるため、複合チタン酸化物の形成後の加工が不要となり、その結果、形状加工の際のダメージが発生しないため、各種デバイスの特性を向上させることができる。【解決手段】 水熱合成法により基板上に複合チタン酸化物膜を形成する方法において、前記基板がチタンを構成元素として含まない基板からなり、かつ基板上にTi金属が所望の形状にパターニングされている基板を使用して水熱合成を行うことにより、前記パターニングされたTi金属上にのみ選択的に複合チタン酸化物膜を形成する複合チタン酸化物膜の製造方法に関する。

請求項（抜粋）：

水熱合成法により基板上に複合チタン酸化物膜を形成する方法において、前記基板がチタンを構成元素として含まない基板からなり、かつ基板上にTi金属が所望の形状にパターニングされている基板を使用して水熱合成を行うことにより、前記パターニングされたTi金属上にのみ選択的に複合チタン酸化物膜を形成することを特徴とする複合チタン酸化物膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 23/04 ,  C30B 7/10 ,  C30B 29/32

FI (3件)：

C01G 23/04 C ,  C30B 7/10 ,  C30B 29/32 D