特許

J-GLOBAL ID：200903001253897556

結晶性水素化シルセスキオキサンの製造方法

発明者： 道野 哲行 ,  レスリー アール カーペンター セカンド ,  グレッグ アラン ザンク
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-272021
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088156
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 結晶性水素化シルセスキオキサンが高い収率で、かつ簡単に製造する方法を提供すること。【解決手段】 a)有機相は水不溶性有機溶剤からなり、水相は25質量%以上の濃度の塩酸水溶液に有機スルホン酸またはその塩からなる界面活性剤(濃度36質量%の塩酸水溶液に5質量%以上溶解可能なもの)を溶解してなる、有機相と水相の2相系を用意し、b)前記2相系に攪拌下でトリクロロシランを添加して、それを水相中あるいは有機相中で加水分解および縮合して水素化シルセスキオキサンを生成し、c)こうして得られる水素化シルセスキオキサンを含む前記有機相から結晶性水素化シルセスキオキサンを分離する。

請求項（抜粋）：

a)有機相は水不溶性有機溶剤からなり、水相は25質量%以上の濃度の塩酸水溶液に有機スルホン酸またはその塩からなる界面活性剤(但し、HCl濃度が36質量%の塩酸水溶液に5質量%以上溶解できるものに限られる。)を溶解してなる、有機相と水相の2相系を準備し、b)前記2相系に攪拌下でトリクロロシランを添加して、それを水相中及び/又は有機相中で加水分解および縮合して水素化シルセスキオキサンを生成し、c)こうして得られた水素化シルセスキオキサンを含む前記有機相から結晶性水素化シルセスキオキサンを分離する工程を含むことを特徴とする結晶性水素化シルセスキオキサンの製造方法。

IPC (2件)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/12

FI (2件)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/12

Fターム (4件)：

4J035BA12 ,  4J035CA021 ,  4J035EA00 ,  4J035EB08