特許

J-GLOBAL ID：200903001257986065

研磨装置と研磨方法

発明者： 村松 智明 ,  吉田 卓
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-034884
公開番号（公開出願番号）：特開平7-241764
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ背面から圧力を均一に印加して研磨し、ウエハの平面度を向上させることができる研磨技術を提供する。【構成】 底面に開口を有し、該開口面に垂直な軸を中心として回転可能な圧力容器と、前記圧力容器の開口面に弾性的に、かつ該開口面を密封するように取り付けられ、ウエハを保持するためのウエハ保持面を有するウエハ保持手段と、前記ウエハ保持手段の下方に配置され、前記ウエハ保持面にほぼ平行な研磨面を有する下定盤とを含む。前記ウエハ保持手段に、前記ウエハ保持面に保持されたウエハの所望の領域に選択的に他の領域よりも比較的大きな圧力を印加するための平面度調整手段を設けてもよい。

請求項（抜粋）：

底面に開口を有し、該開口面に垂直な軸を中心として回転可能な圧力容器と、前記圧力容器の開口面に弾性的に、かつ該開口面を密封するように取り付けられ、下面にウエハを保持するためのウエハ保持面を有するウエハ保持手段と、前記ウエハ保持手段の下方に配置され、前記ウエハ保持面にほぼ平行な研磨面を有する下定盤とを含む研磨装置。

IPC (4件)：

B24B 37/04 ,  B24B 41/06 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304