特許

J-GLOBAL ID：200903001263015438

液晶表示装置の製造方法

発明者： 飯田 正幸 ,  岩元 勝一 ,  林 祐司
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-129338
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321601
出願日： 1999年05月11日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、透明絶縁基板上に薄膜トランジスタを形成した後の組立工程において紫外線を使用しても、この紫外線の照射に起因する薄膜トランジスタの特性劣化を回避することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 透明絶縁基板10上に画素トランジスタ26等を形成する際に、透明絶縁基板10の裏面全体にポリシリコン遮光膜膜24を形成する。次いで、透明絶縁基板10の裏面全体にポリシリコン遮光膜24を残存させたままの状態で、この透明絶縁基板10をダイシングし、透明絶縁基板10に対向させて対向透明基板48をシールし、透明絶縁基板10上の平坦化絶縁膜42及びITO画素電極44と対向透明基板48の透明対向電極層46との間に液晶を注入し封止して、液晶層50を形成する一連の組立作業を行う。

請求項（抜粋）：

透明絶縁基板の表面側に、薄膜トランジスタを形成すると共に、前記透明絶縁基板の裏面に、遮光膜を形成する第1の工程と、前記透明絶縁基板の裏面に前記遮光膜を残存させたままの状態で、前記透明絶縁基板のダイシング、対向基板のシール、液晶注入、及び封止の一連の組立作業を行う第2の工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1365 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 338

FI (4件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/00 338

Fターム (38件)：

2H088FA04 ,  2H088FA05 ,  2H088FA24 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA08 ,  2H088HA14 ,  2H088MA20 ,  2H090JA04 ,  2H090JA05 ,  2H090JD03 ,  2H090LA04 ,  2H092JA25 ,  2H092JA36 ,  2H092JA44 ,  2H092JA46 ,  2H092JB51 ,  2H092JB52 ,  2H092JB56 ,  2H092JB58 ,  2H092JB66 ,  2H092KA04 ,  2H092KA05 ,  2H092KB22 ,  2H092MA17 ,  2H092NA17 ,  2H092PA01 ,  2H092PA09 ,  5G435AA14 ,  5G435AA16 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435EE33 ,  5G435FF13 ,  5G435HH02 ,  5G435HH12 ,  5G435KK05