パタ-ン画像形成装置及びその方法並びに画像形成された基板及びその基板への画像形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏木慎史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325245
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206666
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法並びに画像形成された基板及びその基板への画像形成方法を提供する。【解決手段】コンピュータ画像情報が形成される基板8と、この基板8を保持する基板保持手段7と、前記基板8と相対する位置に配置され液状物質を噴射する噴射ヘッド11と、この噴射ヘッド11にコンピュータ画像情報を入力する情報入力手段18と、この入力されたコンピュータ画像情報に基づいて前記噴射ヘッド11から前記液状物質を噴射させ前記基板8上に物質のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなる。

請求項（抜粋）：

コンピュータ画像情報が形成される基板と、この基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され液状物質を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドにコンピュータ画像情報を入力する情報入力手段と、この入力されたコンピュータ画像情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記液状物質を噴射させ前記基板上に物質のパターン画像を描くパターン画像形成制御手段とよりなることを特徴とするパターン画像形成装置。

IPC (2件)：

G03F 1/00 , H05K 3/06

FI (2件)：

G03F 1/00 D , H05K 3/06 F

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭64-027953
特開昭64-027953
特開昭61-058792

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