特許

J-GLOBAL ID：200903001274058503

含フッ素化合物、およびその製造方法

発明者： 石原 孝
出願人/特許権者： セイミケミカル株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-063469
公開番号（公開出願番号）：特開2006-248901
出願日： 2005年03月08日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】新規の含フッ素化合物およびその製造方法の提供。 【解決手段】下記(1)で表わされる含フッ素化合物。 【化1】式中R1は炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、または水素を表わす。R2、R3、R4およびR5はそれぞれ独立して水素、炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基またはトリアルキルシリルオキシ基を表わす。フェニル基およびシクロヘキシル基は置換基を有していても良い。R2とR3、R3とR4、R4とR5、R2とR5はそれぞれ共同して環を形成していてもよく、該環は酸素原子を介在していても良い。R6はフッ素原子、または水素原子を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記(1)で表わされる含フッ素化合物。

IPC (5件)：

C07C 69/75 ,  C07C 67/347 ,  C07C 69/753 ,  C07C 69/757 ,  C07D 493/08

FI (5件)：

C07C69/75 Z ,  C07C67/347 ,  C07C69/753 Z ,  C07C69/757 Z ,  C07D493/08 A

Fターム (19件)：

4C071AA03 ,  4C071BB01 ,  4C071CC11 ,  4C071DD08 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071HH01 ,  4C071HH28 ,  4C071LL07 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC28 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM20 ,  4H006BM71 ,  4H006BP30 ,  4H006BR70