特許
J-GLOBAL ID:200903001282898707

貴金属系触媒除去液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 土橋 皓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-347277
公開番号(公開出願番号):特開2001-164373
出願日: 1999年12月07日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】 無電解メッキ法を用いた配線基板等の製造時における触媒残渣の除去等、本来必要でない部位に存在する貴金属系触媒を効率よく完全に除去することができ、しかも無電解メッキ種等の適用対象物を制限することがない貴金属系触媒除去液を提供することを課題とする。【解決手段】 エチレンジアミン、エチレンジアミン塩、グルタミン酸、グルタミン酸塩、クエン酸、クエン酸塩、亜硫酸塩、亜硝酸塩、チオ尿素、グリシン塩酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するように構成する。
請求項(抜粋):
エチレンジアミン、エチレンジアミン塩、グルタミン酸、グルタミン酸塩、クエン酸、クエン酸塩、亜硫酸塩、亜硝酸塩、チオ尿素、グリシン塩酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする貴金属系触媒除去液。
IPC (5件):
C23C 18/18 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/304 647 ,  H05K 3/26
FI (5件):
C23C 18/18 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/304 647 A ,  H05K 3/26 Z
Fターム (28件):
4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EA14 ,  4H003EA21 ,  4H003EB08 ,  4H003EB13 ,  4H003EB16 ,  4H003EB21 ,  4H003ED02 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022AA42 ,  4K022AA43 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022CA06 ,  4K022CA16 ,  4K022CA17 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022CA22 ,  4K022CA23 ,  4K022DA01 ,  5E343AA12 ,  5E343CC72 ,  5E343EE02 ,  5E343GG11
引用特許:
審査官引用 (7件)
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