特許
J-GLOBAL ID：200903001286294962
光学装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-321448
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067226
出願日： 1992年11月06日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 損失とは無関係に非線形性の設計可能な可飽和吸収体を提供する。【構成】 可飽和吸収体の飽和強度および損失は、第1と第2の反射要素により画成されるファブリ・ペロー(FP)エタロン内に可飽和吸収体要素を配置することにより別々に規制することができ、この要素は、FPスペクトル応答の反共振部分における光波長(共鳴ピーク)に対応する光波長の間で光に対して応答する。各要素の集合体がFP可飽和吸収体である。この可飽和吸収体の厚さはFP可飽和吸収体の損失を設定するが、光が入射する第1の反射要素の反射率の変動は飽和強度を決定し、可飽和吸収体要素の補償損失を助ける。入射光線に面する可飽和吸収体要素の端面上に高反射率の第1の反射要素が配置され、同様な高反射率の第2の反射要素がその反対側の端面上に配置される。誘電体層は第1の反射要素を形成し、半導体層は第2の反射要素を形成する。複数個の量子井戸およびバリヤ層を使用し、可飽和吸収体要素を形成する。
請求項（抜粋）：
相互に離間され、それらの間にファブリ・ペローエタロンを形成する第1および第2の反射要素と、概ね所定の光周波数において非線形光吸収を有し、前記第1および第2の反射要素の間に配置された半導体材料とからなり、前記ファブリ・ペローエタロンは複数の光周波数と各周波数が共鳴条件に対応することを特徴とし、前記所定の光周波数は前記複数の光周波数内の何れか2つの隣接光周波数間にあり、これにより、前記所定の光周波数は概ね、ファブリ・ペローエタロンの非共鳴条件に対応する光周波数において発生する、ことを特徴とする光学装置。
IPC (2件)：
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