特許
J-GLOBAL ID：200903001287985179
基体の平坦化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-035344
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221067
出願日： 1994年02月08日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 化学的機械研磨による基体の平坦化方法において、研磨工程におけるパターン依存性をなくし、また、スラリー溶液の使用効率を上げる。【構成】 グリセリン、または、アラビアゴムにグリセリンを添加した溶液等の高粘度溶液をスラリー溶液17に混合することにより研磨に用いるスラリー溶液17の粘度を調整して化学的機械研磨を行う。また、このとき、研磨装置の研磨パッド16直前でスラリー溶液17の粘度をモニターし、そのモニター結果に応じて制御系24により高粘度溶液の供給量を制御して粘度を最適値に保つようにする。
請求項（抜粋）：
化学的機械研磨法を用いて段差を有する基体を平坦化する工程を少なくとも1回以上有する基体の平坦化方法において、化学的機械研磨に用いられるスラリー溶液の粘度を調整して化学的機械研磨を行うようにしたことを特徴とする基体の平坦化方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, B24B 37/04
, H01L 21/304 321
