特許
J-GLOBAL ID:200903001289249917

有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-223128
公開番号(公開出願番号):特開平11-197645
出願日: 1998年08月06日
公開日(公表日): 1999年07月27日
要約:
【要約】【課題】 炭素源と還元剤を用いる還元脱ハロゲン反応による前記汚染物の浄化方法において、前記汚染物中に含まれる酸素、硝酸、硫酸等の酸化物や酸により金属粉末の還元力が無駄に消耗することを防ぎ、経済的かつ効率的に脱ハロゲン化を行う方法を提供する。【解決手段】 有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤及び微生物の増殖基質である可溶性の有機炭素源を添加し、中性条件下で、該汚染物の温度を17°C以上60°C以下の温度の状態に少なくとも最初の数日間維持することを特徴とし、前記可溶性の有機炭素源が、糖類、有機酸または有機酸塩、アルコール、有機性廃液のいずれか又はその混合物であることが好ましい。
請求項(抜粋):
有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤及び微生物の増殖基質である可溶性の有機炭素源を添加し、中性条件下で、該汚染物の温度を17°C以上60°C以下の温度の状態に少なくとも最初の数日間維持することを特徴とする有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法。
IPC (6件):
B09C 1/10 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C02F 3/00 ZAB ,  C02F 11/02 ZAB
FI (5件):
B09B 3/00 ZAB E ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 3/00 ZAB D ,  C02F 11/02 ZAB ,  B09B 3/00 304 K

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