特許
J-GLOBAL ID:200903001291285033

2次元イメージング表面プラズモン共鳴測定装置および測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伴 俊光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-065983
公開番号(公開出願番号):特開2001-255267
出願日: 2000年03月10日
公開日(公表日): 2001年09月21日
要約:
【要約】【課題】 アスペクト比を補正する機能を有し、被測定物質の実際のアスペクト比に合致した測定データが得られる2次元表面プラズモン共鳴測定装置を提供するとともに、さらに、抗原抗体反応などの生体物質や遺伝子の多チャンネル測定、生物や細胞の物質の代謝などの様子を測定する方法を提供する。【解決手段】 被測定物質に接する金属薄膜を表面上に備えたプリズムと、光源からの光をp偏光光の平行な光束としてプリズム側から入射させる入光手段と、金属薄膜からの表面プラズモン共鳴現象による吸収を含んだ反射光の2次元の受光光量を測定する受光手段とを有し、前記入光手段により光束を前記金属薄膜の面に対し斜めに入射することによる、反射光のアスペクト比の被測定物質の金属薄膜への接触面におけるアスペクト比に対する歪みを補正する手段を備えたことを特徴とする2次元イメージング表面プラズモン共鳴測定装置、およびそれを用いた測定方法。
請求項(抜粋):
被測定物質に接する金属薄膜を表面上に備えたプリズムと、光源からの光をp偏光光の平行な光束としてプリズム側から入射させる入光手段と、金属薄膜からの表面プラズモン共鳴現象による吸収を含んだ反射光の2次元の受光光量を測定する受光手段とを有し、前記入光手段により光束を前記金属薄膜の面に対し斜めに入射することによる、反射光のアスペクト比の被測定物質の金属薄膜への接触面におけるアスペクト比に対する歪みを補正する手段を備えたことを特徴とする2次元イメージング表面プラズモン共鳴測定装置。
IPC (4件):
G01N 21/27 ,  G01N 33/483 ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/553
FI (4件):
G01N 21/27 C ,  G01N 33/483 C ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/553
Fターム (35件):
2G045AA40 ,  2G045CB30 ,  2G045DA12 ,  2G045DA13 ,  2G045DA37 ,  2G045DA80 ,  2G045FA07 ,  2G045FA12 ,  2G045FB01 ,  2G045FB02 ,  2G045FB03 ,  2G045GC11 ,  2G045JA01 ,  2G045JA07 ,  2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD03 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE12 ,  2G059FF01 ,  2G059FF11 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059PP04
引用特許:
出願人引用 (3件)

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