特許

J-GLOBAL ID：200903001292690969

カチオン性ケイ素化合物とその製造方法、及び重合開始剤としての用途

発明者： 畠中 康夫 ,  アノグ チャンドラ セーカー レッディ ,  田中 正人 ,  小野澤 俊也
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-063346
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265477
出願日： 2001年03月07日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、カチオン重合反応においてモノマーの変換率が高く、しかも均質なポリマーを与える、工業的に有用性が高い重合開始剤を提供することを目的とする。【解決手段】 下記一般式(1)【化1】(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の低級アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキニル基又はシリル基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは未置換の低級アルキル基又はアリール基を表す。また、R1とR2又は/及びR3とR4は互いに結合して、それぞれが隣接する元素と共に環を形成していてもよい。A-はアニオン種を表す。)で示されるカチオン性ケイ素化合物、及びN-(シリルメチル)アミドと金属塩とを反応させることを特徴とする該カチオン性ケイ素化合物の製造方法、並びに該カチオン性ケイ素化合物を含んでなる重合開始剤に関する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の低級アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキニル基又はシリル基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは未置換の低級アルキル基又はアリール基を表す。また、R1とR2又は/及びR3とR4は互いに結合して、それぞれが隣接する元素と共に環を形成していてもよい。A-はアニオン種を表す。)で示されるカチオン性ケイ素化合物。

IPC (4件)：

C07F 7/18 ,  C08F 4/58 ,  C08G 65/02 ,  C08G 85/00

FI (5件)：

C07F 7/18 U ,  C07F 7/18 W ,  C08F 4/58 ,  C08G 65/02 ,  C08G 85/00

Fターム (17件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ64 ,  4H049VQ89 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS34 ,  4H049VU13 ,  4H049VW02 ,  4J005AA02 ,  4J005AA08 ,  4J005BB04 ,  4J015DA10 ,  4J031CA03 ,  4J031CA06 ,  4J031CB04