特許
J-GLOBAL ID:200903001293599043

電子ビーム照射用の熱陰極およびその熱陰極の製造方法およびその熱陰極を用いた電子ビーム加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-170933
公開番号(公開出願番号):特開平7-094072
出願日: 1994年07月22日
公開日(公表日): 1995年04月07日
要約:
【要約】【目的】 熱陰極の加熱温度を約1500°C〜1800°C程度で、かつ、10-2〜10-3Pa程度の低真空雰囲気中で電子ビームを安定に照射する。【構成】 2400°C以上の融点を有する金属、または、その金属を主成分とする合金、または、その金属の炭化物、または、その金属のホウ化物、または、ジルコニウムの炭化物、または、ジルコニウムのホウ化物のうち選ばれた少なくとも1種の耐イオン衝撃性高融点耐熱物質2と、ランタン、イットリウム、セリウム、セシウムから選ばれた少なくとも1種のホウ化物または酸化物から選ばれた低仕事関数を有する電子放射物質3とを加熱・加圧によって一体化した熱陰極1を電子ビーム加工装置に用いる。
請求項(抜粋):
2400°C以上の融点を有する金属、または、その金属を主成分とする合金、または、その金属の炭化物、または、その金属のホウ化物、または、ジルコニウムの炭化物、または、ジルコニウムのホウ化物のうち選ばれた少なくとも1種の耐イオン衝撃性高融点耐熱物質と、ランタン、イットリウム、セリウム、セシウムから選ばれた少なくとも1種のホウ化物または酸化物から選ばれた低仕事関数を有する電子放射物質とを含み一体化したことを特徴とする熱陰極。
IPC (3件):
H01J 1/14 ,  H01J 9/04 ,  H01J 37/30
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特公昭55-005660
  • 特開平3-055739
  • 特開昭57-063744
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