特許

J-GLOBAL ID：200903001310267025

容器内表面処理方法

発明者： 中村 雅一 ,  大木 厚志 ,  牧原 康二 ,  山本 みゆき ,  来島 貴彦 ,  林 茂樹 ,  溝上 敏
出願人/特許権者： 大阪酸素工業株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187369
公開番号（公開出願番号）：特開平8-054098
出願日： 1994年08月09日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 容器内で高純度なガスを純度の低下をもたらすことなく保持可能であり、且つその純度が容器内圧力依存性を持たずに安定して高純度なガスを供給することを可能たらしめる容器内表面処理方法を提供すること。【構成】 容器元弁110を容器105に装着し、パ-ジガス源と真空排気系とに切り換え可能な切換バルブ107を介して容器元弁110の外部連通通路をパ-ジガス源及び真空排気系とに接続し、容器元弁110を常に開の状態にし、容器105を80°C以上の温度に加熱しながら、パ-ジガス源からパ-ジガスを容器105に充填する工程と、容器105を真空引きする工程とを、切換バルブ107の切り換えにより、少なくとも1回以上繰り返すことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

一般ガス又は特殊材料ガスの供給手段として用いられている高圧容器又は低圧容器のガス充填前の容器内表面処理方法において、容器元弁を容器に装着し、パ-ジガス源と真空排気系とに切り換え可能な切換バルブを介して該容器元弁のガ外部連通通路と、該パ-ジガス源及び真空排気系とを接続し、該容器元弁を常に開の状態にし、該容器を80°C以上の温度に加熱しながら、該パ-ジガス源からパ-ジガスを該容器に充填する工程と、該容器を真空引きする工程とを、該切換バルブの切り換えにより、少なくとも1回以上繰り返すことを特徴とする容器内表面処理方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-275998
  
• 特開平1-275998
  
• 特開平1-275998
  
• 特開平1-275998