特許
J-GLOBAL ID：200903001316634429
ガラス基板洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-217060
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069178
出願日： 1992年08月17日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 本発明は,半導体ウエハプロセスで用いるマスク,或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方法に関し,洗浄液中にガラス基板を浸漬した加圧洗浄により,ガラス基板の表面に付着した残渣や異物が完全に除去出来る方法を得ることを目的とする。【構成】 ガラス基板1を洗浄液3中に浸漬し, ガラス基板1の表面を洗浄液3により洗浄するガラス基板洗浄方法において, 洗浄液3を加圧容器2中に満たし, ガラス基板1の表面を洗浄液3により加圧洗浄するように,加圧容器2内にオーバーフロー洗浄機能4を設け, 加圧ポンプ6により貯液槽7内の洗浄液3を送液配管9を通して, 加圧容器2内に送り込み, 洗浄液3を加圧洗浄前にオーバーフローさせるように,加圧容器2外に超音波振動子5を設けて, ガラス基板1の表面を洗浄液3により加圧洗浄する際に, 超音波洗浄を併用するように,ガラス1の加圧時間と休止時間を, 各々別個に制御するように構成する。
請求項（抜粋）：
ガラス基板(1) を洗浄液(3) 中に浸漬し, 該ガラス基板(1)の表面を該洗浄液(3) により洗浄するガラス基板洗浄方法において,該洗浄液(3) を加圧容器(2) 中に満たし, ガラス基板(1) の表面を該洗浄液(3) により加圧洗浄することを特徴とするガラス基板洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
, G03F 1/08
