特許
J-GLOBAL ID:200903001321573888

薄膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-261109
公開番号(公開出願番号):特開平6-112470
出願日: 1992年09月30日
公開日(公表日): 1994年04月22日
要約:
【要約】【目的】 ラングミュアーブロジェット(LB膜)の形成に当たり、三次元的に分子配列を制御した膜形成を行なうこと。【構成】 下層液3上に単分子膜2を展開した水槽1と、探針7とその三次元の微小移動を制御するピエゾ素子8と探針7とピエゾ素子を大きな範囲で移動させるための駆動部10及びこれらを制御する制御部9からなる装置で、探針7と単分子膜2との間で流れるトンネル電流により単分子膜2を局所的に改質する。また、探針7により単分子膜7を構成する分子を移動させる。【効果】 三次元的に分子配列が制御された膜形成が可能となるため、LB膜に新たな機能を出現させることに効果がある。
請求項(抜粋):
液面上に展開した単分子膜を基板上に移し取ることによって該基板上にラングミュアーブロジェット(LB)膜を形成する薄膜形成装置において、該LB膜を構成する分子を分子と同等の大きさで操作することにより該LB膜中に該分子が局所的に改質、導入あるいは置換された構造を形成する手段を有し、二次元的若しくは三次元的に分子配列を制御した薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成装置。

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