特許
J-GLOBAL ID：200903001329851291
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-166232
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349729
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 角型基板の端縁洗浄を効率よく行うことができる基板処理装置を提供する。【構成】 内部に塗布処理空間が形成された開閉自在の外囲容器10と、この外囲容器10内に備えられ、角型基板Wを保持した状態で回転する昇降自在の基板回転保持機構と、角型基板Wの昇降を許容する退避位置と塗布液供給位置とにわたって変位可能に構成され、塗布液供給位置で角型基板W上に塗布液を供給する塗布液供給機構30と、角型基板Wの上昇位置にあたる水平面内で進退移動可能に構成され、進出位置において角型基板Wの対向する端縁にそれぞれ溶剤を吐出して不要薄膜を溶解除去する一対の溶剤吐出機構40とを備え、角型基板Wへの薄膜形成と、基板端縁の洗浄とを連続的に行う。
請求項（抜粋）：
内部に塗布処理空間が形成された開閉自在の外囲容器と、前記外囲容器内に設けられ、角型基板を保持した状態で回転する昇降自在の基板回転保持手段と、所定の塗布液供給位置で前記角型基板上に塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記角型基板の上昇位置において作用する作用位置と角型基板の昇降を許容する退避位置とにわたって変位可能に構成され、作用位置において前記角型基板の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 501
