スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332968
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294570
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】波長220nm以下の紫外光に対して透明性が良く、かつ光反応効率(光酸発生効率)が高く、130〜220nmの波長の露光に対応した化学増幅型レジスト材料に利用される新規な光酸発生剤の提供。【解決手段】本発明の光酸発生剤は、下記一般式(I):【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立に、直鎖または分枝のアルキル基、単環式または橋架け環式の環状アルキル基、または、R1とR2が互いにつながり環を形成した基あるいは前記環上にオキソ置換された基、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、Xは-CH2-、-C2H4-または-OCH2-、Y-は対イオンを表す)で示されるスルホニウム塩化合物である。

請求項（抜粋）：

一般式(I):【化1】(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、直鎖のアルキル基、分枝のアルキル基、単環式の環状アルキル基および橋架け環式の環状アルキル基からなる群から選択される基、または、前記の飽和炭素骨格を有するR1、R2が互いにつながり環を形成した基、あるいは、R1、R2が互いにつながり環を形成し、さらにオキソ置換がなされた基であり、R3、R4、R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基からなる群から選択される基であり、Xは、-CH2-、-C2H4-、-OCH2-(但し、-OCH2-はオキシ基とベンゼン環が結合する)からなる群から選択される基であり、Y-は対イオンを表す)で示されるスルホニウム塩化合物。

IPC (8件)：

C07C381/12 , C07D311/22 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (8件)：

C07C381/12 , C07D311/22 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 , 2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 4C023JA05 , 4C062EE44 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92

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